光干涉法测量校准检测仪器特点
光干涉法测量校准检测仪器特点是基于光的干涉原理实现纳米级超高精度测量的先进技术。该方法通过比较参考光路与测量光路的光程差,将微小位移或几何量变化转换为干涉条纹的移动,从而精确测定长度、角度、平面度等参数。仪器检测时,利用激光干涉仪作为基准,通过分析干涉条纹的数目、间距及形变特征,可系统校准仪器的示值误差、分辨率及非线性等关键指标。光干涉法具有非接触、高灵敏度和环境适应性强的优势,仪器检测过程需严格控温(20℃±0.1℃)并隔绝振动干扰,确保测量数据溯源至国家基准,为超精密制造领域提供亚纳米级量值传递的可靠技术保障。
光干涉法测量校准检测仪器具有以下特点:
测量精度高
采用激光干涉原理,通过测量光波波长变化实现几何量检测,精度可达亚纳米级(0.1nm),甚至达到光波波长量级(约10⁻⁷米)。
非接触式测量
无需接触被测表面,避免对样品造成损伤,适用于超精细加工表面的测量。
全场测量能力
通过干涉条纹位移测量光程差,可实现全场测量而非单点检测,提高测量效率。
环境稳定性
易受温度、气压等环境因素影响,需通过环境补偿技术将误差控制在±0.5 ppm范围内。
适用范围
可测量范围为0.1μm至1.0μm,适用于薄膜厚度、表面粗糙度等参数的校准检测。
光干涉法测量校准检测仪器特点
(1)非接触测量,无损于被测表面。
(2)适应测量超精细加工的表面,测量范围为0.1um——1. OpLm 。
(3)测量的主要参数为Rz和Ry 。
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本文由仪器检定校准中心推出。



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